程序升温脱附系统
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产品描述
程序升温脱附系统
产品整体参数
产品技术性说明：
TPD技术（基于高灵敏度原位质谱为基础的程序升温脱附谱技术）是―种能原位地探测反应产物粒子的质量、种类等信息的高端表面分析技术，主要应用于考察原子和分子层面的催化反应机理和过程。该技术也可以与激光系统联用，用于光化学反应机理和动力学的研究领域。该技术应用在超高真空条件下，主腔室和电离腔室的搭配使用，可实现探测区域优于2×10-11 Torr。
产品列表
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真空度 |
主腔室好于1x10-10mbar 探测区域好于2x10-11mbar |
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质朴检测质量数 |
2-500amu |
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旗形样品托温度 |
150K-1100K |
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俄歇电子能谱（AES） |
定制 |
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低能电子衍射（LEED） |
定制 |
